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Phase transition of the Si(111)-4x1-In surface reconstruction investigated by electron transport measurements

机译:si(111)-4x1-In表面重建的相变   通过电子传输测量研究

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摘要

We measure the electron conductivity of the surface states and the subsurfacespace charge layer originating from the Si(111)-4x1-In reconstruction as afunction of temperature. The conductivity of the surface states drops sharplyaround 130 K with decreasing temperature, revealing a metal-insulator phasetransition of the surface reconstruction. In contrast, the influence of thephase transition on the conductivity of the space charge layer is limited totemperatures above 60 K. This means that the surface Fermi level remainsstrongly pinned despite the phase transition, indicating the presence of freecarriers in the surface states down to rather low temperatures.
机译:我们测量源自Si(111)-4x1-In重构的表面状态和表面下电荷层的电子电导率随温度的变化。随着温度的降低,表面态的电导率在130 K附近急剧下降,揭示了表面重构物的金属-绝缘体相变。相反,相变对空间电荷层电导率的影响仅限于60 K以上的温度。这意味着尽管发生了相变,但表面的费米能级仍被牢固地钉扎,这表明表面状态低至相当低的状态下存在自由载流子温度。

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